Nhà cung ứng: Công ty TNHH Hitachi Asia (Việt Nam)
Thiết bị giúp giảm thiểu hư hại mẫu nhờ sử dụng điện cực loại Magnetron.
● Hiển thị qua màn hình cảm ứng LCD nên thuận tiện và dễ dàng cài đặt các điều kiện vận hành.● Có thể lựa chọn buồng mẫu cho loại mẫu dầy hay lớn (chọn thêm.)● Chức năng phương pháp để lưu trữ các điều kiện xử lý thường dùng.
STT Mô tả Bộ phóng điện (Discharge) Loại Loại phóng điện diode magnetron (Trường điện vuông góc với trường từ) Loại điện cực Đĩa song song ngược (nam châm nhúng) Điện áp 0.4kV DC tối đa (thay đổi thông qua điều khiển pha) Dòng Tối đa 40mA DC Tốc độ phủ (tối đa)*1*2 [Điều kiện] Áp suất: 7Pa Dòng điện phóng: 40mA Khoảng cách giữa bia phủ và bền mặt mẫu: 20mm Loại bia Pt (chọn thêm) 15nm/phút Loại bia Pt-Pd (chọn thêm) 20nm/phút Loại bia Au (chọn thêm) 35nm/phút Loại bia Au-Pd (chọn thêm) 25nm/phút Mẫu phủ Đường kính tối đa 60mm Chiều cao tối đa 20mm Bơm sơ cấp 135/162L/min (50/60Hz) Bia phủ*2 Pt, Pt-Pd(8:2), Au, Au-Pd(6:4) Nguồn điện yêu cầu Một pha, 100V AC (±10%) 15A (50/60Hz), ổ cắm 3 cực (3mm) Kích thước Rộng 450mm Sâu 391mm Cao 390mm Trọng lượng Máy chính: 25kg Bơm sơ cấp: 28kg
STT
Mô tả
Bộ phóng điện (Discharge)
Loại
Loại phóng điện diode magnetron (Trường điện vuông góc với trường từ)
Loại điện cực
Đĩa song song ngược (nam châm nhúng)
Điện áp
0.4kV DC tối đa (thay đổi thông qua điều khiển pha)
Dòng
Tối đa 40mA DC
Tốc độ phủ (tối đa)*1*2
[Điều kiện]
Áp suất: 7Pa
Dòng điện phóng: 40mA
Khoảng cách giữa bia phủ và bền mặt mẫu: 20mm
Loại bia Pt (chọn thêm)
15nm/phút
Loại bia Pt-Pd (chọn thêm)
20nm/phút
Loại bia Au (chọn thêm)
35nm/phút
Loại bia Au-Pd (chọn thêm)
25nm/phút
Mẫu phủ
Đường kính tối đa
60mm
Chiều cao tối đa
20mm
Bơm sơ cấp
135/162L/min (50/60Hz)
Bia phủ*2
Pt, Pt-Pd(8:2), Au, Au-Pd(6:4)
Nguồn điện yêu cầu
Một pha, 100V AC (±10%) 15A (50/60Hz), ổ cắm 3 cực (3mm)
Kích thước
Rộng
450mm
Sâu
391mm
Cao
390mm
Trọng lượng
Máy chính: 25kg
Bơm sơ cấp: 28kg
Mã sản phảm:
Danh mục ngành nghề
Hãy nhập từ khóa tìm kiếm.